產(chǎn)品詳情：
一、使用動(dòng)態(tài)LQ離子群水處理機(jī)組（電離釋放型動(dòng)態(tài)水處理系統(tǒng)）的幾個(gè)理由
傳統(tǒng)處理循環(huán)冷卻水的方法主要是加入化學(xué)藥品來(lái)抑制微生物生長(zhǎng)和結(jié)垢，但因水中藥品和無(wú)機(jī)鹽隨水的蒸發(fā)而濃度增加，這樣必須排放部分含藥和無(wú)機(jī)鹽的冷卻水，同時(shí)及時(shí)補(bǔ)充清潔水。傳統(tǒng)處理方法帶來(lái)的問題：系統(tǒng)用水量增加和大量排水，間接導(dǎo)致水費(fèi)增加；微生物的抗藥性，要求及時(shí)地、適時(shí)地改變藥品；盡管如此，結(jié)垢問題、生物膜，軍團(tuán)菌三大問題還是不能*解決。
由冷卻塔等設(shè)備形成的循環(huán)冷卻水系統(tǒng)是軍團(tuán)菌容易生存、繁殖的場(chǎng)所之一，同時(shí)可借助冷卻塔冷卻風(fēng)機(jī)，將軍團(tuán)菌散布至都市各個(gè)角落，對(duì)人體產(chǎn)生極大的危害之隱患。
二、圖例說(shuō)明傳統(tǒng)水處理與HP離子群

從圖中我們明顯的看出KL離子群的使用效果，下面我們?cè)敿?xì)的分析一下循環(huán)冷卻水中的各種問題及處理方案。
1、循環(huán)冷卻水系統(tǒng)中管道內(nèi)外表面結(jié)垢的主要成分是鈣鹽與鎂鹽，它們的溶解度隨溫度的增高而降低，這類鹽就會(huì)沉積在加熱表面上，參見圖1。
表1：結(jié)垢的厚度與熱效的關(guān)系

結(jié)垢厚度（mm）	0．15	0．3	0．61	0．84	1．22
熱效損失（%）	5．3	10．8	21．5	32．2	43．0

2、冷卻循環(huán)水中的生物膜
循環(huán)冷卻水適宜的溫度，大量不清潔的空氣，以及被太陽(yáng)直射開放的集水池等諸多條件，均有利于各種微生物的生存與繁殖。
大量的實(shí)地實(shí)驗(yàn)證明，清潔的換熱器管道內(nèi)外表面是不易形成積垢的，無(wú)機(jī)物沉淀后的垢質(zhì)是一種疏松的粉末，很容易被水流沖走。但微生物一旦生成，繼而產(chǎn)生生物膜，無(wú)機(jī)物沉淀與生物膜結(jié)合催生的聚合物，將會(huì)很難處理。
 

3  冷卻循環(huán)水中的軍團(tuán)菌
軍團(tuán)菌是一種菌種的總稱，屬革蘭氏陰性，嗜氧，干狀菌，其大小約為2～5×0.3～0.9微米，能隨水氣、水滴進(jìn)入人體呼吸道而寄生肺組織細(xì)胞內(nèi)。
人們一旦被軍團(tuán)菌所感染，一種較輕的軍團(tuán)菌叫“傍帝亞克病”，病人類似重感冒，一般不會(huì)轉(zhuǎn)成肺炎，只需對(duì)癥下藥，通常7～10天內(nèi)可治愈；另一種被稱為“嗜肺軍團(tuán)病”，感染潛伏期2～10天，病情發(fā)作呈現(xiàn)典型的肺炎病癥。
1987年北京*發(fā)現(xiàn)軍團(tuán)病以后，我國(guó)已將其納入傳染病防治名單。
軍團(tuán)菌普遍存在于水環(huán)境中，其存活、繁殖的溫度條件是20～58℃（*35～46℃）。
表2：幾種微生物細(xì)菌的世代期

微生物名稱	世代時(shí)間（分鐘）
蠟狀芽孢桿菌	18
覃狀芽孢桿菌	28
嗜熱芽孢桿菌	13．8
巨大芽孢桿菌	32
假單胞桿菌	9．8
嗜酸乳酸菌	66～90
乳鏈球菌	26
小球菌	8．5

動(dòng)態(tài)LQ離子群水處理機(jī)組設(shè)備示意圖

三、循環(huán)冷卻水質(zhì)穩(wěn)定性判斷
1、飽和指數(shù)法：IL=PHe-PHs
式中IL-飽和指數(shù)（朗格利爾指數(shù)）
熱阻為傳熱系數(shù)的倒數(shù)。
PHe-水的實(shí)例PH值；
PHs-水的碳酸鈣飽和平衡時(shí)的PH值；
（1）當(dāng)IL=PHe-PHs＞0時(shí)，水中的碳酸鈣處于過飽和狀態(tài)，有結(jié)垢傾向。
（2）當(dāng)IL=PHe-PHs=0時(shí)，水中的碳酸鈣剛好處于平衡狀態(tài)，*、不結(jié)垢。
（3）當(dāng)IL=PHe-PHs＜0時(shí)，水中CO2過飽和，有腐蝕傾向。
2、穩(wěn)當(dāng)指數(shù)法： IL=2PHs-PHe
3、臨界PH值法；
4、用試驗(yàn)方法測(cè)得剛剛出現(xiàn)結(jié)垢時(shí)的水的PH值，稱為臨界PH值，用PHc表示。
動(dòng)態(tài)LQ離子群控制：PH值    電導(dǎo)率   濁度     鈣離子    鎂離子   軍團(tuán)菌  微生物
氯離子  總硬度   鋅離子   總鐵離子   正磷     總磷
離子群的簡(jiǎn)寫：Cooperate
四、動(dòng)態(tài)LQ離子群的控制原理
在噴淋式冷卻塔中，軍團(tuán)菌zui易繁殖。軍團(tuán)菌也是一種非典型肺炎病菌，能在25~42℃水溫下迅速繁殖，這種病菌通常存在于空調(diào)冷卻塔，加濕器和冷熱水管道中，由飛灑的水滴和灰塵攜帶，通過建筑物的通風(fēng)系統(tǒng)和空調(diào)的新風(fēng)系統(tǒng)進(jìn)入室內(nèi)。2006 年2 月10 衛(wèi)生部發(fā)布的《公共場(chǎng)所集中空調(diào)通風(fēng)系統(tǒng)衛(wèi)生管理辦法》明確規(guī)定: 空調(diào)系統(tǒng)冷卻水、冷凝水不得檢出軍團(tuán)菌。
磷酸鹽和聚合物類阻垢劑
冷卻水系統(tǒng)在水高濃縮倍數(shù)下進(jìn)行，由于磷酸鹽會(huì)大量的附著在金屬的表面上，反而引起結(jié)垢的危害，并且，聚磷酸鹽會(huì)水解生成正磷酸鹽，生成磷酸鹽垢。后有磷酸鹽和聚合物類阻垢劑的復(fù)合藥劑，即使冷卻水被高度濃縮，仍能充分發(fā)揮緩蝕和阻垢效果。
1.光催化劑的主要成分是納米級(jí)的二氧化鈦，它吸收陽(yáng)光中的紫外線后，可形成活性氧類的超氧化物，破壞病毒所寄宿細(xì)胞的細(xì)胞膜，凝固病毒的蛋白質(zhì)，抑制病毒的活性和細(xì)菌的繁殖，殺菌能力達(dá)99.9%。
2.氧化性殺菌劑通常為強(qiáng)氧化劑，能夠氧化微生物體內(nèi)起代謝作用的酶，從而殺滅微生物。氧化性殺菌劑對(duì)所有的微生物都有良好的殺滅能力。
3.非氧化性殺菌劑是以致毒劑作用于微生物，破壞微生物的新陳代謝或分裂細(xì)胞壁。
4.剝離劑在冷卻水中使用微生物剝離劑，他們不能直接殺死微生物，但是可以將微生物從系統(tǒng)中剝離下來(lái)，被沖走或由殺菌劑將其殺滅。zui主要的特點(diǎn)，剝離劑可以去除微生物粘泥的沉積，保證系統(tǒng)的清潔，這是控制軍團(tuán)菌zui為有效的方法。
氧化銀
微生物在循環(huán)冷卻水系統(tǒng)中的大量繁殖生長(zhǎng)會(huì)使水質(zhì)惡化,影響系統(tǒng)正常運(yùn)行 。由日本開發(fā)研制的載銀玻璃抗菌劑以磷酸鹽玻璃和硼硅酸鹽玻璃為載體,在玻璃熔制過程中加入了氧化銀作為殺菌成分 。在冷卻循環(huán)水箱中添加適量上述可溶性玻璃及適量銅鋅合金纖維,可以持久抑菌、滅藻及防止污穢。另一種工業(yè)循環(huán)冷卻水用殺菌玻璃由SiO2 、Na2O、Al2O3 和Ag2O 組成,由于不含硼,所以這種玻璃成本低,含少量Al2O3 可提高玻璃中Ag2O 的含量并減緩玻璃的潮解,殺菌滅藻性能更強(qiáng)、更持久。
空調(diào)水系統(tǒng)
在熱水系統(tǒng)包括空調(diào)水系統(tǒng)中經(jīng)常會(huì)滋生一些致病微生物,如軍團(tuán)菌等,危害人類健康。直接使用銀鹽就能很好地殺滅熱水系統(tǒng)中的軍團(tuán)菌。研究表明，3μg/ L 的銀離子就能很好地控制循環(huán)熱水系統(tǒng)中軍團(tuán)菌的生長(zhǎng)。為控制熱水系統(tǒng)中的軍團(tuán)菌，現(xiàn)在使用較多的是銅銀離子復(fù)合殺菌劑。Stout等在醫(yī)院熱水系統(tǒng)中采用含銀離子0104 mg/ L 、銅離子0117 mg/ L 的銅銀離子復(fù)合殺菌劑來(lái)控制軍團(tuán)菌并取得了較好的效果。
游泳池水處理
游泳池水處理用殺菌劑必須有高度的安全性，因此含銀殺菌劑在這一領(lǐng)域有廣闊的應(yīng)用前景。Anman 發(fā)明了一種能用于游泳池水處理的殺菌劑，該藥劑以正2 價(jià)銀的氧化物為主要?dú)⒕镔|(zhì)，能在水中穩(wěn)定存在，殺菌效率高，并且對(duì)人體有高度的安全性，*能取代氯系、溴系殺菌劑。
飲用水處理
梅科環(huán)保公司研制出一種飲用水用高分散銀型活性炭纖維殺菌劑，與水接觸后可緩釋出銀離子，從而起到殺菌作用。據(jù)報(bào)道，這種高分散銀型活性炭纖維與水接觸2 h 后就可將常見病原性的大腸桿菌和金黃色葡萄球菌*殺滅。
氧化硼
加入H2S04，使易揮發(fā)的PbCl2轉(zhuǎn)變成難揮發(fā)的PbSO4或?qū)⒙入x子轉(zhuǎn)變?yōu)槁然瘹涠s走。NaOH曾被用來(lái)沉淀鐵為氫氧化鐵或轉(zhuǎn)鋅為鋅酸鹽；H3B03可以防止Pb（ND3）2被器皿滯留并使PbCl2定量回收，是因?yàn)榕鹋c硅和鉛反應(yīng)形成了硼-硅-鉛玻璃，而防止鉛被揮發(fā)，同時(shí)由于氧化硼形成二相的化合物，在酸的作用下，可以使Pb定量的轉(zhuǎn)入溶液，而防止了被石英器皿滯留。
五、槐氏公式的定性解釋
分散度即顆粒大小,分散度越大,顆粒越小。
Co--加入沉淀劑瞬間沉淀物的濃度；S--開始沉淀時(shí)，沉淀物的溶解度；
Co-s--沉淀開始瞬間的過飽和度;  Co-S/S--沉淀開始瞬間的相對(duì)過飽和度。
六、沉淀的形成過程
1、沉淀形成過程
構(gòu)晶離子（飽和溶液）→晶核→沉淀微粒｛1.聚集→無(wú)定開沉淀2.定向排列→晶類列沉淀｝
2、成核作用（晶核的形成）
（1）均相成核作用（自發(fā)成核）
構(gòu)晶離子在過飽和溶液中由于靜電作用先形成離子對(duì)→離子群→晶核。
（2）異相成核作用（誘導(dǎo)成核）
溶液中某些固體微粒、容器壁上的毛刺等起晶種作用，形成晶核（晶核數(shù)不變）。
七、表面吸附
吸附層：優(yōu)先吸附構(gòu)晶離子 。
擴(kuò)散層：優(yōu)先吸附與構(gòu)晶離子能形成溶解度小，離解度小的物質(zhì)的抗衡離子。當(dāng)C相近時(shí)，
Z愈大，變形性愈大，越易被吸附；
當(dāng)Z相同時(shí)，C愈大，越易被吸附。
一般，某些陰陽(yáng)離子被吸附的強(qiáng)度順序
1/2SO＜CI＜Br＜I＜SCN＜OH
Li＜Na＜K＜Rb＜Cs＜NH＜Mg＜Ca+Ba＜AI＜Fe...＜H
八、安裝示意圖

九、動(dòng)態(tài)HP離子群機(jī)組參數(shù)及尺寸表

型   號(hào)	進(jìn)出水口直徑（mm）	zui大處理流量（T/h）	主機(jī)尺寸（mm）			副機(jī)尺寸（mm）				電 源	離子群釋放 時(shí)間（天）	參數(shù)重量（kg）
			L	H	B	L	h1	h2	d			主機(jī)	機(jī)副
LQ2R/N	50	35	600	1200	500	680	251	612	20	220V232W	150	30	45
LQ-3R/N	80	55	600	1200	500	710	278	612	25	220V242W	150	30	48
LQ-4R/N	100	90	600	1200	500	710	318	612	25	220V282W	150	30	56
LQ-5R/N	125	130	600	1200	500	730	327	645	25	220V312W	150	30	72
LQ-6R/N	150	190	600	1200	500	730	382	695	40	220V580W	150	30	80
LQ-8R/N	200	320	600	1200	500	780	410	825	40	220V610W	150	30	95
LQ10R/N	250	500	600	1200	500	805	490	850	50	220V640W	150	30	126
LQ12R/N	300	760	600	1200	500	935	520	910	50	220V720W	150	30	175
LQ14R/N	350	1100	600	1200	500	1080	554	930	80	220V780W	150	30	216
LQ16R/N	400	1350	600	1200	500	1180	572	985	80	220V832W	150	30	265
LQ18R/N	450	1600	600	1200	500	1260	600	1025	80	220V880W	150	30	358
LQ20R/N	500	2200	600	1200	500	1345	718	1070	100	220V950W	150	30	475
LQ24R/N	600	2900	600	1200	500	1490	841	1140	100	220V1080W	150	30	740
LQ28R/N	700	3450	600	1200	500	1620	992	1186	100	220V1200W	150	30	999
LQ32R/N	800	4150	600	1200	500	1700	1190	1245	100	220V1450W	150	30	1350
R為冷卻水、N為冷凍水（以上參數(shù)僅供參考，實(shí)際以出廠成品為準(zhǔn)）。

十、動(dòng)態(tài)離子群水處理機(jī)組功能要求
過濾精度：1.0～8.0mm                 管道連接：GB法蘭
離子置換率>90%                       濁度<21     PH  7~8
總硬度<800mg/L                       設(shè)備承壓≤1.6mpa
電流：Ac220v  50Hz                   溶縮倍數(shù)：6～8倍
除垢：>99%                           防垢：>99%
除銹：>98%                           水溫：0~80℃
殺軍團(tuán)菌率>99%                       滅藻率>99%
殺滅細(xì)菌率>99%                       壓損<0.016Mpa
流速1～25m/s                         水頭損失：0.15～1.0m
壓差范圍：28～310KPa                 電異率≤200us/cm
防腐蝕率：<0.005毫米/年               腐蝕速度≤0.125mm／a（5mpy）
色度≤80~100                         陰離子N03
十一、應(yīng)用范圍

1.水景池、游泳池等水池水處理2.中央空調(diào)冷凍循環(huán)水系統(tǒng)3.電廠、鋼廠、化工、成型工藝、焊接工藝、注塑機(jī)等冷卻循環(huán)水系統(tǒng)4.熱水鍋爐及熱水循環(huán)水系統(tǒng)5.研磨機(jī)中的冷卻液、冷卻機(jī)油的清潔處理

十二、產(chǎn)品特點(diǎn)

1.離子體含多種離子，具有多項(xiàng)功能2.具有除垢防垢。除銹防銹、殺菌滅藻等功能3.防銹并控制局部腐蝕4.控制菌類、軍團(tuán)菌、藻類的繁殖5.具有水質(zhì)軟化功能，可代替軟化器設(shè)備6.提高水系統(tǒng)得濃縮倍數(shù)，節(jié)約水源60%左右7.提高換熱效益，節(jié)約電能25%左右8.操作、管理簡(jiǎn)單，零維護(hù)

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